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        產品展示
        ?JC系列磁控濺射鍍膜機
        • 用途及特點
        • 規格參數
          JC系列用途及特點
          Use and Features
           
          ●磁控濺射鍍膜設備主要用于在基片上鍍制金屬、半導體、電介質、多元素化合物或混和物。利用濺射法可制備金屬膜、半導體膜、絕緣膜、硬質膜、耐熱膜、耐腐蝕膜、超導膜、磁性膜、光學膜等各種特殊性能的薄膜。
          ●基片尺寸適應范圍廣,可鍍制多種材料,工藝可控性好、靈活性強、重復性高、基片溫升小、膜層附著力強,計算機全自動控制,******性高。且安裝維護方便,占地位置小。
          JC系列磁控濺射鍍膜機
          Series JC Magnetron Sputtering Coater
           
          主要機型及參數
          Main models and parameters
          型號
          Model
          應用特點
          Application field
          裝片工作臺特點
          Features of film loading bench
          基片尺寸
          Size of substrate
          產量/每小時
          1μ鋁層厚度
          Output per hour 1μm aluminum coating thickness
          厚度
          均勻性
          thickness homogeneity
          真空系統
          Vacuum system
          JC400-1/D 適合科研、生產硅片及砷化鎵片
          Scientific research,production of silicon film and gallium arsenide film
          全自動盒對盒送片,濺射源數量可按工藝調整,低塵粒
          Full automatic box-to-box film advance;quantity of sputtering source to be adiusted as per the process;low in density of dust particles
          4~6″ 40 ±5% 低溫泵加
          分子泵系統
          Cryogenic pump system added with molecular pump
          JC500-1/D 適用于圓形片狀工件
          Circular sheet work-piece
          工件可進行公轉,水平裝片
          Revolution of work-piece available;horizontal film loading
          4″ 16 ±8% 分子泵系統
          Turbomolecular pump system
          JC500-5/D 適用于矩形片狀工件
          Rectangular sheet work-piecevv
          工件可進行公轉,垂直裝片
          Revolution of work-piece available;vertical film loading
          150x150mm 10 ±8% 分子泵系統
          Turbomolecular pump system
          JC600-1/D 適用于矩形片狀工件
          Rectangular sheet work-piecevv
          工件架為十邊拄形,垂直裝片
          work-piece holder in decagonal column shape;vertical film loading
          280x100mm 20 ±8% 擴散泵系統
          Diffusion pump system
          JC600-2/D 適合科研、生產砷化鎵基片線寬亞微米級
          Scientific research,production of gallium arsenide film with line width at submicron level
          工件可進行自傳、公轉
          水平裝片
          Rotation and revolution of work-piece available;horizontal film loading
          3″ 24 ±5% 低溫泵系統
          Cryogenic pump system
          JC650-1/D 適用于矩形或圓形片狀工件
          Rectangular or circular sheet work-piece
          工件可進行公轉,水平裝片
          revolution of work-piece available;horizontal film loading
          Φ100mm 10 ±5% 分子泵系統
          Turbomolecular pump system
           

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